ข้อดีของการเคลือบไอออน PVD และการเคลือบการระเหยแบบสูญญากาศ

หลักการเฉพาะของเทคโนโลยีการชุบไอออน (การเคลือบ PVD) ส่วนใหญ่หมายถึงการใช้เทคโนโลยีการปล่อยอาร์กแรงดันต่ำกระแสสูงและแรงดันต่ำในสภาพแวดล้อมสุญญากาศ และการใช้การปล่อยก๊าซอย่างมีเหตุผล ซึ่งสามารถส่งเสริมการระเหยอย่างรวดเร็วของวัสดุเป้าหมาย และระเหยก๊าซและสารทั้งสองสามารถแตกตัวเป็นไอออนได้อย่างรวดเร็วแล้วเร่งด้วยสนามไฟฟ้า จึงกระตุ้นให้เกิดผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาและสารระเหยจำนวนมากรวมตัวกันบนชิ้นงาน เมื่อเปรียบเทียบกับการเคลือบการระเหยแบบสุญญากาศ การเคลือบไอออนแบบ PVD มีข้อดีดังต่อไปนี้เนื่องจากคุณลักษณะที่หลากหลาย: (1) ไอออนมีประสิทธิภาพการเลี้ยวเบนที่ดีกว่า และสามารถประมวลผลชิ้นงานที่ชุบที่ซับซ้อนต่างๆ ได้; (2) พื้นผิวของชิ้นงานและฟิล์มมีแรงยึดเกาะที่แข็งแกร่ง จึงมีความทนทานต่อการสึกหรอและความทนทานสูงกว่า (3) การเคลือบสามารถเคลือบได้หลายประเภท (4) ฟิล์มมีอัตราการสะสมที่เร็วกว่าและมีประสิทธิภาพการผลิตสูงกว่า (5) มีประสิทธิภาพฟิล์มค่อนข้างคงที่ และความปลอดภัยก็สูงมากเช่นกัน　　เทคโนโลยี PVD เหมาะสำหรับการขึ้นรูป การปั๊ม การยืด และแม่พิมพ์อื่นๆ เครื่องมือกลึง สว่าน และเครื่องมืออื่นๆ และชิ้นส่วนที่มีความแม่นยำ หลังจากใช้เทคโนโลยีการเคลือบกับแม่พิมพ์แล้ว แรงต้านการสึกหรอและความแข็งสามารถปรับปรุงได้อย่างมีประสิทธิภาพ และลดค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานได้ในเวลาเดียวกัน เพื่อให้อายุการใช้งานของชิ้นงานสามารถยืดเยื้อได้ โดยปกติเมื่อเปรียบเทียบกับชิ้นงานที่ไม่ผ่านการบำบัด อายุการใช้งานจะเพิ่มขึ้นได้ 3-10 เท่า จนถึงขณะนี้ การเคลือบทั่วไปส่วนใหญ่ได้แก่: TiCN, CiN ฯลฯ และเทคโนโลยีการเคลือบต่างๆ มีความแตกต่างที่ชัดเจนในการใช้งานและคุณลักษณะ โพสต์ก่อนหน้า: ลำดับการติดตั้งแม่พิมพ์ปั๊มโลหะคืออะไร